News - Unternehmen und Märkte vom 10/26/2012

Carl Zeiss

Zentrum für Lithografie-Optik erweitert

Für die neuen Produktionshallen und Bürogebäude des Unternehmensbereichs Halbleitertechnik im Interkommunalen Gewerbegebiet Oberkochen/Königsbronn feierte das Unternehmen mit Partnern und Mitarbeitern das Richtfest.

Der Richtkranz wird unter das Hallendach gezogen: Dr. Hermann Gerlinger (links), Mitglied des Vorstands von Carl Zeiss und Vorsitzender der Geschäftsführung der Carl Zeiss SMT GmbH, und Hellmuth Aeugle, Leiter von Business Services & Infrastructure von Carl Zeiss. (Bild: Carl Zeiss)

„Gemeinsam mit dem Neubau des Unternehmensbereichs Medizintechnik und weiteren Gebäuden ist die Erweiterung das größte Bauprojekt in der Geschichte von Carl Zeiss“, erklärt Dr. Michael Kaschke, Vorstandsvorsitzender von Carl Zeiss. Insgesamt wird Carl Zeiss in den kommenden Jahren rund 500 Millionen Euro in den weiteren Ausbau der deutschen Unternehmensstandorte investieren. Für das Werk der Halbleitertechnik entstehen momentan neue Fertigungsräume und Bürogebäude. Bis zum kommenden Jahr wird sich die Nutzfläche nahezu verdoppeln. Ein großer Teil wird dabei zu Reinraumfläche ausgebaut, die höchste Anforderungen erfüllt.

„Im Unternehmensbereich Halbleitertechnik arbeiten wir an verschiedenen Hightech-Produkten zur Nutzung im Halbleiterequipment-Geschäft“, sagt Dr. Hermann Gerlinger, der im Vorstand der Carl Zeiss AG für den Unternehmensbereich Halbleitertechnik zuständig ist. „Neben unseren bewährten, sehr erfolgreichen Produkten fertigen wir nun auch Optiken der EUV-Technologie." Die optische Lithografie mit extrem ultraviolettem Licht (EUV) markiert den nächsten Technologiesprung in der Mikrochipfertigung. Sie ermöglicht Strukturen von unter 20 nm und damit die Herstellung noch leistungsfähigerer Chips. Das Richtfest für die Erweiterung des Unternehmensbereichs Halbleitertechnik feierte Carl Zeiss mit insgesamt mehr als 1.500 Mitarbeitern und Partnern. Der Bezug der neuen Gebäude ist für Frühjahr 2013 geplant.

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